诚峰等离子体设备已应用于各种电子元件的制造：
       在二十世际初，伴随着高新科技制造业的快速进步，诚峰等离子体设备的应用日益广泛，已经进入了许多高科技领域，占据着核心技术的位置，等离子体设备清洗技术对产业发展和现代文明的影响力较大 ，首推电子资讯工业，特别是半导体与光电工业。

       等离子体设备已经被应用到各种电子元件的制造中，我们可以肯定，没有等离子设备及其清洗技术，就不会有今天如此发达的电子、信息、通信制造业。另外，电浆设备及其清洗技术也广泛应用于光学工业、机械和航天工业、高分子工业，并且是光学元件镀膜、耐磨损层、复合材料中间层、隐含镜片表面处理等都需要等离子技术来开发，这些都需要等离子技术的发展来完成。这个领域是一个新兴的领域，它把等离子物理、等离子化学、气固界面的化学反应结合起来，这是一种需要跨越多个领域，包括化工、材料、电机等，这一领域将具有挑战性和机遇，而且随着半导体和光电材料的迅速增长，这一方面的应用需求会越来越大。
        等离子体设备形成的绝缘膜的俘获特性的绝缘膜的半导体基板。在具有这种构造的半导体基板上，防止在后工序中的不必要的再氧化，另外对于被注入的杂质具有阻挡。所以，可以得到不容易受半导体制造工序的条件的影响力的、具有稳定的绝缘膜的半导体基板。在对半导体基板进行等离子体处理的等离子体设备，具有半导体基板的处理容器、处理容器导入微波的微波导入部、处理容器供给处理气体的气体供给部，处理容器同时供给氧和氮，半导体基板的表面同时进行氧化处理和氮化处理，形成绝缘膜。