plasam清洁设备的使用始于二十世纪初。随着高新技术产业的快速发展，其运用越来越广泛。目前，它在许多高新技术领域处于关键技术的地位。plasam清洗设备对工业经济和人类文明的干扰最大，是电子信息产业，尤其是半导体产业和光电产业的首选。plasam清洗设备已运用于制造各种电子元件。可以肯定的是，没有plasam清洗设备技术，就没有今天如此发达的电子、信息和通信行业。接下来，分析等离子清洗在ITO领域的运用特点。  

       铟锡氧化物(ITO)是1种重要的透明半导体材料，它一方面有着比较稳定的化学性质，还有着良好的透光性和导电性，因此在光电工业中被广泛应用。ITO在沉积过程中形成一个高度简单的n型半导体。在Sn掺杂的情况下，所得到的费米能级Er位于导带底EC以上，载流子浓度高，电阻率低。此外，ITO有着较宽的光学禁带，因而可见光和近红外光的透过率较高。ITO薄膜的上述特性使其在光电器件中得到了广泛的应用，如光伏电池、电致发光、液晶显示、传感器和激光。
       ITO知道ITO是1种非化学计量化合物，沉积条件、后处理工艺和清洗方法会明显干扰其表面层性能。其中，表面形貌及化学成分分析干扰了ITO膜与有机层界面特性，从而影响了器件的光电性能。因此，在制造设备之前，商用ITO导电玻璃通常需要用适当的方法处理ITO膜表面层。改善了器件的表面层电性能和表面形貌，改善了器件的性能。迄今为止，ITO表面层改性的方法可分为干法和湿法两种。在这些方法中，干法处理一般采用各种电离气体等离子体来清洗ITO表面，去除其表面层污染，改善表面形态；湿法处理是通过有机溶剂在ITO表面层间结合新的活性基团来达到改性表面层的目的。
       ITO阳极通过氧plasam清洗设备进行表面层改性。从处理前后ITO膜化学成分分析、晶体结构、透光率和方块电阻的变化可以看出，未经处理的ITO表面层含有碳相关残留污染物；plasam清洗设备后，峰值强度明显降低，说明等离子体处理可以有效去除ITO表面层的有机污染物。plasam清洗设备一方面降低了ITO表面层的碳浓度，而且提高了ITO表面层的氧浓度。从而改善ITO表面层的化学成分分析，这对提高ITO的功能和设备性能非常重要。而且等离子体表面层改性有利于提高有机太阳能电池的能量转换效率和设备的光伏性能，对提高有机光伏电池的短路电流、填充因子和能量转换效率起着重要作用。