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低温plasma设备产生的离子注入是靠汽体电弧放电产生的电离汽体，产生低温汽体离子注入方式 许多，常见方式 有直接电弧放电、射频电弧放电、徽波电弧放电等。低温plasma设备中的离子注入改善材料表面性能的机理可粗略认为:在低温离子注入反应室内，低压工作汽体中的电子在电场加速器作用下，在电子接触及派生离子、原子的接触使汽体电离，关键在于产生低温离子注入。
PTFE高频徽波双层pcb电路板的孔化生产制造中，较大 的关键点是化学沉铜前的活化前处置，也是重要的这一步。pcb电路板制造业，基本依托多种多样的化学处置溶液，对需要进行表面镀金属的部位进行活化改性处置，然后才能用于低温电路板生产制造设备离子注入技术。但低温离子注入改性是一一干法工艺，不需要进行废液处置，而且作用时间短，效率高，改性只在表面层进行，不影响基体的固有性质。plasma设备技术在高分子材料上的应用有如下优点:
①属于干式工艺；节能无污染，满足节能环保的需要；
②时间短,效率高;
③对所处置的材料无严格要求，具有普通适应性;
④可处置形状较复杂的材料，材科表面处理均匀性好;
⑤反应环境温度低;
⑥对材料表面的作用仅涉及几到几百纳米，材科表面性能改善的同时，基体性能不受影响。
这6点就是plasma设备在高分子材料上的应用。
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