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20年专注等离子清洗机研发生产厂家
诚峰智造-CRF_等离子清洗机是怎样快速清(除)物件表面的残留胶渣:
诚峰智造-CRF_等离子清洗机应用包括处理、灰化/光刻胶/聚合物去除、介电质刻蚀等等。CRF-等离子清洗机不仅能完全清除光刻胶等有(机)物，还能活(化)单晶硅片表面，改善单晶硅片表面的渗透性。仅需简单地对等离子清洗装置进行处理，就可清除(完全)自由基高分子聚合物，包括隐藏在非常深而尖细的沟槽中的聚合物。达到其他清理方式很难完成的效(果)。
在半导体元器件的生产过程中，单晶硅片芯片表面会有各种颗粒、金属离子、有机物和残留物等污染杂质。为了避免污染物对芯片处理性能的严重影响和缺陷，半导体单晶硅片在制造过程中需要经过多次表面清洗步骤，而诚峰智造-CRF_等离子清洗机是单晶硅片光刻胶的理想清洗设备。
电浆是通过电场加速，在电场作用下高速运动，使物体表面发生物理碰撞，产生足够的等离子能量来清除各种污染物。诚峰智能制造-CRF_等离子清洗机不需要其他原材料，只要空气能满足要求，使用方便，无污染。同时，它比超声波清洗更有优势。等离子不仅可以清洗表面，还可以提高表面活性。等离子体与物体表面的化学反应能产生有活力的化学物质。这些化学集团活性高，应用广泛，如提高材料表面粘接能力、焊接能力、邦定性、亲水性等。
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