等离子设备清洗是1种“干式”的清理技术，处置完后原料能够立即进入下一阶段的生产过程，玻璃电子光学等离子清洗机做为关键的原料表层改性形式中的一种，是1种稳定而又高效的技术阶段，处置温度低至40℃,低温处置确保样品表层无损坏。

（1）什么是等离子设备？
plasmacleaner又叫等离子设备，是一种新型的现代科学技术，它可以灵活地利用等离子体来改善常用的清洁方法所无法改善的效果。等离子体是材质的1种状况下，也叫做材质的第四态。对汽体释放充足的动能使之离化便成为等离子状况下。等离子体的“特异性”组分涵盖：离子、电子、特异性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子清洗机就是通过灵活运用这些特异性组分的性质来处置样品表层，进而达到清理等目地。
（2）等离子设备的机理
它首要依赖等离子体中特异性颗粒物的活化功能来除去物件表面上的污垢。从反應体制来说，等离子清洗大多数涵盖接下来阶段：无机汽体被激发为等离子情况下；气相材质被粘附在物质表面上；被粘附的基团和物质表面上。
等离子设备在处置中有着下面的特点：
（a）环保节能。相较于传统式湿式清理技术，等离子清洗技术使干式技术，不消耗水和化学试剂，省能源、无污染
（b）有着在线生产能力，能达到全自动化处置，处置时间短，效率高，成本低
（c）不分处置基材类型，均可进行处置，能处置形状较复杂的原料，原料表面处理的均匀性好。
（d）对原料表层的功能仅涉及到纳米级处置，可在保持处置原料原本特效的同时，赋予其另一种新的功能
（e）处置温度低，不对原料表层造成损害，常用样品处置后较长时间内保持效果良好
等离子设备，可根据客户需求配置流水线生产方案
（3）产品结构
等离子设备关键由高电压激发主机电源、等离子发生装置喷头及自动控制系统3大组成部分构成。
A、等离子设备高电压激发主机电源：
等离子体的发生必须高电压激发，大气压等离子设备选用中频电源激发，频率在10-40KHz。高电压则在4-10KV，参数根据样品实际情况可进行调节，达到效果。
B、等离子设备喷头：
大气压等离子设备发生装置喷头，可划分为喷射直喷和旋转直喷2种，差别取决于处置的有效范围不一样。
C、自动控制系统：
自动控制系统功能取决于控制整个大气压低温等离子清洗设备的运行，以及整体系统的保护
（4）大气压等离子设备参数
（5）等离子设备用途
用以清理及激活表层特性，基本上任何的原料都能采用等离子设备进行精密清理和表层激活
a 等离子设备应用于除去油脂、油、氧化物、纤维，除去硅氧树脂（LABS-free），綁定、电焊、粘合前预备处理，金属材料构件喷涂前预备处理等;
b电子行业的手机壳印刷、涂敷、点胶等前处置，手机屏幕的表面处理;
c国防工业航天电连接器表面上清理；
d粘合前、喷涂前、印刷前的预备处理，粘合、锡焊、电镀前的表面处理;
e表层活化，生物材料的表层装饰，电缆电线表层喷码，塑胶表层涂敷，印刷涂布或粘合前的表面处理;
f锂电池模组预备处理和电池组的粘合，电池组塑胶外壳和防护铝壳的预备处理与粘合;
gCOF或LE技术的电极表层清理、液晶显示屏或OLED玻璃清理、IC封装Led芯片封装表层清理或改质、PCB表层清理、活化、改质或除去粘合剂.