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20年专注等离子清洗机研发生产厂家
plasma设备crf的应用领域和机理：
随着我国经济快速发展，清洁技术不断发展和创新，从传统的手工清洁到有机溶剂清洁、高压水射流清洗和超声波清洗。随着科学技术的快速发展，作为本世纪初plasma设备表面处理技术的出现，清洁技术已逐渐应用于汽车制造涂料预处理、液晶玻璃表面清洁、电路板印刷、电镀、油污替代化学处理等领域。
plasma设备清洗技术在应用过程中具有清洗效果彻底、处理表面稳定、清洁困难部位有效清洁等特点。plasma设备的工作原理主要依靠等离子体活性颗粒的“激活”来去除物体表面的污渍。
在反应机制方面，plasma设备的等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被刺激为等离子体状态；固体表面吸附气相物理；吸附基团与固体表面分子反应产生产物分子；产物分子分析形成气相；反应残留物脱离表面。
材料表面产生的plasma设备反应主要有2种：一种是等离子体的物理反应，另一种是自由基的化学反应。
plasma设备和材料表面的物理反应主要是利用离子作为纯物理冲击，原子或附着在材料表面的离子，因为平均自由基的低压，能量积累，所以在物理冲击中，离子能量越高，越容易产生冲击，所以如果物理反应，必须控制低压反应，使清洁效果更好。
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