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诚峰等离子表面处理器的清洗的反应原理哪几个？
物理反应(离子轰击)和化学反应可分为等离子体与固状表面的作用。物理反应机制是活性粒子轰击待清洗表面，使污物脱离表面最后被真空泵抽走；化学反应机制是各种活性的粒子和污物作用形成易挥发的特性杂质的，然后由真空泵抽走挥发的特性杂质的。
以物理反应为主的等离子体清洗，也叫做溅射腐蚀（SPE）或离子铣（IM），其优点在于本身不发生化学反应，清洁表面不会留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化学纯净性，腐蚀作用各向异性；缺点就是对表面产生了很大的损害，会产生很大的热效应，对被清洗表面的各种不同物质选择性差，腐蚀速度较低。以化学反应为主的诚峰等离子表面处理器清洗的优点是清洗速度较高、选择性好、对清除有机污染物比较有效，缺点是会在表面产生氧化物。
与物理反应相比，化学反应的缺点难以克服。并且两种反应机制对表面微观形貌造成的影响有显著不同，物理反应能够使表面在分子级范围内变得更加“粗糙”，从而改变表面的粘接特性。还有一种诚峰等离子表面处理器清洗是表面反应机制中物理反应和化学反应都起重要作用，即作用离子腐蚀或作用离子束腐蚀，两种清洗可以互相促进，离子轰击使被清洗表面产生损伤削弱其化学键或者形成原子态，容易吸收作用剂，离子碰撞使被清洗物加热，使之更容易产生作用；其效果是既有较好的选择性、清洗率、均匀性，又有较好的方向性。
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