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20年专注等离子清洗机研发生产厂家
低温等离子的历史由来和参数介绍：
低温等离子清洁的运用始于20世纪初。伴随着现代科学技术全产业链的迅速发展趋向，低温等离子清洁适用于合金材料、半导体器件、氧化成分、有机化合物和绝大部分高分子化合物材料的多种材料类别，并可满足多样化构造的清洁。等离子清洁的过程中不用任何的有机化学溶液，具备污染小、清洁质量好的优势。广泛运用于半导体制造、微电子包装、光学工业、机械航天工业、精密仪器等领域。
低温等离子是1种常见的固体、液体、气体以外的第四种成分，主要由电子、正离子、自由基、光子等中性粒子组成，其正负电荷总是相等的，因此被称为等离子。微波等离子由输出功率为2.45GHz的微波激发工序气体放电，在正负极磁场作用下的谐振腔内产生等离子。谐振腔位于反应仓旁边，磁控管连接到微波发生器。由于整个放电的过程不需要正负电极，自偏压极小，从根本上避免了静电放电损伤。
常用低温等离子电源激发频率有3种：四十kHz等离子为超声等离子，物理反应；13.56mHz等离子为射频等离子，物理化学反应；2.45gHz等离子为微波等离子，离子浓度最高，化学反应，典型工序为氧气或氢等离子工序。通过化学反应，氧等离子可以将非挥发性有机化合物变成挥发性CO2和水蒸气，去除污垢，清洁表面；氢等离子可以通过化学反应去除金属表面氧化层，清洁金属表面。
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