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CRF_等离子体刻蚀机主要运用的五大目的是什么？
CRF 等离子体刻蚀机的运用，始于二十世纪初，高科技产品制造业的迅速发展让它的运用变得越来越广，如今已在许多高科技产品行业领域中广泛运用。
CRF 等离子体刻蚀机在半导体材料、电子类材料干式清洁中的运用变得越来越普遍，如硅晶片的光刻技术脱离、清除有机膜、界面活性化、细小碾磨、清除碳化膜等行业领域，找原装进口等离子清洗机,清洗机有关，CRF 等离子清洗设备都发挥了积极作业。除了半导体材料有关的清洁用途外，CRF 等离子体刻蚀机在其他各种行业领域也都是有广泛运用，如与微生物、医药学有关的微IC芯片抗压强度和流道亲水性的增强，眼镜片喷涂前的加工处理，石棉分析前的加工处理，复合材料黏合抗压强度的增强，液晶显示屏黏合抗压强度的增强等。
CRF 等离子体刻蚀机主要运用目的：
1.复合材料表面官能基黏合性，贴合性提升。经过氧化反应，转化成-OH,>C=O,-COOH等官能基团(水分和COOH)。即使是N2等离子，原装进口等离子清洗机,口碑好哪家专业，表面被N2原子包囊，也会转化成-NH2的官能基；
2.器件等保护膜脱离；
3.原材料（金属，高分子，胶片，陶瓷等）等离子体刻蚀机表面改质；
4.石棉前加工处理（膜滤器的灰化）；
5.等离子体刻蚀机从电子器件到生物化学市场都可运用；
6.PDMSIC芯片和玻璃。
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