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CRF等离子清洗机制备纳米粉末有别的独有的优势

CRF等离子清洗机制备纳米粉末有别的独有的优势:
       氧化铋是一种重要的功能粉体材料,广泛应用于无机合成、电子陶瓷、化学试剂等领域,主要用于制造瓷介电容器,也可用于制造压电陶瓷、压敏电阻等电子陶瓷元件。鉴于纳米氧化铋粒度更细,除了拥有一般粒度的氧化铋粉末的性质和用途外,还可以用于对粒度有特殊要求的场合,如电子类材料、超导材料、特殊功能陶瓷材料、阴极射线管内壁涂料等。

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       因此,对纳米Bi:O3制备方法及应用的探索已引起了相关研究人员的广泛兴趣。制备纳米Bi20,方式大致有固相反应法、沉淀法、喷雾燃烧法、溶胶-凝胶法等,这些方法已取得良好的效果,但仍存在一些局限性:喷雾燃烧法制备的纳米氧化铋粒径不均匀且对设备要求较高;化学法生产的纳米氧化铋易团聚,鉴于生产过程中使用了碱液,不可避免的带入了碱金属或碱土金属离子,影响氧化铋的纯度。
CRF等离子清洗机等离子体的活性大,它是处于电离状态的气态物质,是一种气相的化学反应。       plasma是纯净气体电离产生的,有利于制备高纯度的粉体。鉴于等离子表面处理机等离子体的温度梯度大,所以容易得到高饱和度,也很容易实现快速淬冷,得到高纯的纳米粉末。与液相法对比,正常情况下气相法制备的粉体产品纯度高、表面清洁、结晶组织好、环境污染少,因而在制备铋纳米粉体时,使用气相法更为有利。
        用CRF等离子清洗机制备纳米粉末有许多用别的方式所不具备的优点。等离子体为热源,以普通微米级纳米氧化铋粉体为原料,通过选择合适的功率、加料量,成功制备出粉末中位粒径17.5nm、比表面积为47.73m/g的正方晶系纳米BizO3粉末;制备的纳米氧化铋纯度高、结晶组织好。

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