氧气、Ar、表面粗化和辅助活性气体在等离子清洗中如何选择：
       常见的工艺气体等离子体清洗机、Ar、氮气、压缩空气、H2、C4F等。电离气体产生等离子体，以表面处理工作组件。无论是清洁还是表面激活，为了达到最佳的处理效果，都会选择不同的工艺气体，那么如何选择等离子体清洗机常见的工艺气体呢？
一、等离子清洗-氧气
       o2等离子体清洗中常用的活性气体，属于物理学+化学处理方法法中，电离后产生的离子体可以物理地击中表面，形成一个粗糙的表面。同时，高活性氧离子可与断裂后的分子链发生化学反应，形成活性基团的亲水性表面，达到表面激活的目的；断裂后的有机污染物元素与高活性氧离子发生化学反应CO、CO2、H2O分子结构与表面分离，达到表面清洁的目的。
氧气主要用于聚合物材料的表面活化和去除有机污染物，但不适用于易氧化的金属表面。真空等离子体状态下的氧等离子体呈浅蓝色，部分放电条件下呈白色。放电环境光线明亮，肉眼观察时可能看不到真空腔内的放电。
二、等离子清洗-Ar
        Ar是一种惰性气体。电离产生的离子体不会与基底发生化学反应。主要用于基底表面的物理清洁和等离子体表面的粗化。最大的特点是，表面清洁不会导致精密电子设备的表面氧化。因此，在半导体中使用了Ar等离子体清洁器、微电子、晶圆制造等行业应用广泛。
        在真空等离子体清洁器中，电离产生的等离子体呈深红色。在同样的放电环境氢和氮产生的等离子体颜色为红色，但氩等离子体的亮度低于氮和氢，更容易区分。

三、等离子清洗-表面粗化
        等离子体清洗机表面粗化，又称表面蚀刻，旨在提高材料表面的粗糙度，增加粘结、印刷、氩离子体清洗机处理后的表面张力将显著提高焊接等工艺的结合力。活性气体产生的等离子体也可以增加表面的粗糙度，但氩离子产生的粒子相对较重，电场作用下的氩离子动能明显高于活性气体，因此其粗糙度效应更明显，广泛应用于无机基底的表面粗糙度。例如，玻璃基底的表面处理.金属基材表面处理等。
四、等离子清洗-辅助活性气体
       在等离子体清洗机的激活和清洗过程中，常常混合工艺气体，以达到更好的效果。由于Ar分子相对较大，电离后产生的颗粒通常与活性气体混合，最常见的是Ar和氧气混合。氧是一种高活性气体，可有效分解有机污染物或有机基底表面，但颗粒相对较小，断裂和轰击能力有限，如添加一定比例的Ar，等离子体对有机污染物或有机基底表面具有较强的断裂和分解能力，加速清洁和活化效率。