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20年专注等离子清洗机研发生产厂家
电路板电浆清洗机蚀刻有效去除表面材料多晶硅残留的有机胶体：
5g技术的不断发展，国内半导体领域的湿法蚀刻技术鉴于其固有的限制性已慢慢限定了其进步，已无法符合VLSIμm甚至纳米线材的加工要求。电浆清洗机多晶硅片清洗设备干法蚀刻法鉴于其产生的离子密度高，蚀刻均匀，蚀刻侧壁垂直度大，表面光洁度高，能清除表面杂质，在半导体加工工艺中慢慢取得了普遍的适用。电浆表面处理机去胶，去胶气体为O2。本产品经过将电路板放置于真空反应系统中，通入少许的O2，加上高频高压，由高频信号发生器产生高频信号，在石英管中产生较强的电磁场，使氧离子化，使氧离子、氧原子、氧分子、电子等混合物质产生辉光柱。活性原子态氧能迅速将残余胶体氧化为易挥发气体，并使之挥发而被带走。
随着现代半导体技术的进步，对蚀刻加工的要求越来越高，多晶硅片电浆蚀刻清洗设备也应运而生。确保产品生产过程稳定、重复性的关键因素之一是产品稳定性。CRF诚峰智造电浆清洗机是1种多功能电浆清洗机设备，经过配置不同的组件，使其具备了镀层(涂层)、腐蚀、电浆化学反应和粉末等离子体处理等多种功能。在清除了电路板上的残留物之后，将电路板清理干净。电路板电浆清洗机去胶操作简单，去胶效率高，表面干净光洁，无划痕，成本低，环保。
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