CRF plasma 等离子清洗机

支持材料 测试、提供设备 试机

20年专注等离子清洗机研发生产厂家

咨询热线
13632675935

crf电浆清洗机处置以后ITO外表粗糙度提升

crf电浆清洗机处置以后ITO外表粗糙度提升:
        现阶段处置ITO的方式主要是分成物理方法和化学方式2种。主要是CRF电浆清洗机处置和打磨抛光,化学方式主要包含酸碱处置、氧化物质处置及其在ITO表层提升有机质和无机物。

电浆清洗机

        CRF电浆清洗机处置被指出是最有效的处理方式。ITO的表层功函数与元件中的空穴传输层NPB的最高电子具有轨道(HOMO)之间存有较高的势垒,致使元件的特性低。
        TTO表层的氧含量将直接影响ITO的功函数,氧含量提升将致使ITO费米能级的减低,功函数的增高。ITO经相混电浆清洗机处置后,表层形貌会出现明显转变。
未经处理的ITO表面形态和等离子体处理的ITO表面形态分析发现,ITO表面的平均粗糙度和峰谷距离明显降低,表面颗粒半径也大大降低。ITO与有机质层的接触面增大,有利于氧原子的附着。电浆清洗机处置能更好地改善ITO表层形貌,与此同时可以看到ITO表层氧空洞明显增多,表层富集了1层带负电的氧,形成界面偶极层,提升了ITO表层功函数,使得ITO的空穴注人能力大大增强。
        此外,电浆清洗机处置以后ITO外表粗糙度减少,ITO膜与NPB之间的界面能减少,空穴注人变得容易,与由阴极注人的电子更好的复合产生激子,电浆清洗机处置后的阳极制备的元件亮度高,质量好。


相关等离子产品
等离子新闻


线

诚峰智造——专注等离子研发20年