crf等离子清洗机活化改性特性可提高氧化锆陶瓷粘接性能：

       氧化锆陶瓷修复体已广泛应用于牙科领域，如全瓷冠、冠桥、贴面、种植体等。氧化锆在室温下一般为单斜相，因而加入氧化钇来维持四方相，该四方相氧化锆被称为“钇稳定的四方氧化锆多晶”。与其他牙科陶瓷相比，钇-四方氧化锆多晶具有良好的生物相容性、优异的力学性能和光学性能，是一种极具发展潜力的陶瓷材料。传统的氧化锆陶瓷因半透性较差，美观效果不佳，在美学修复区的应用有所限制。近年来，出现了高透明氧化锆以及超透明氧化锆，能满足前牙区的美学修复，使得氧化锆的使用更加广泛，可用于全锆冠、贴面、嵌体、粘接桥等，但单纯氧化锆无法获得较好的化学粘接，粘接强度不足，临床应用受限。
       在口腔医学领域中，为了提高氧化锆陶瓷的粘接性能，更好地将其应用到牙科修复中，国内外许多研究学者将等离子体材料表面改性技术引入到氧化锆处理中，并且取得了显著成效。
       在材料crf等离子清洗机表面改性应用中，等离子体材料表面改性是各类方法中发展最快的，是材料研究领域的热点。研究发现，在plasma材料表面改性中，等离子体中的活性物质及高能粒子发挥着重要作用，它们与材料表面相互作用。具体来讲，一方面，等离子体中具有许多高能带电粒子，这些粒子所带能量远远高于一般物质的化学键键能，因此，在电场作用下，这些高能带电粒子能将材料表面原有化学键打开，并经过重新组合形成具有新特性的化学键，从而使材料表面化学性质发生改变；另一方面，plasma中的高能带电粒子不断对材料表面进行轰击，刻蚀材料表面，使其表面粗糙化，同时依靠能量传递使材料表面能发生变化，最终达到材料表面改性目的。
       表面化学活性的激活和表面形貌的粗糙化是氧化锆粘接性能提高的主要原因。等离子体中•OH等活性物质和亚稳态Ar原子、电子等高能粒子能够清除氧化锆表面污染物，降低疏水基团(-CH2)相对含量，并与氧化锆表面反应，提高含氧化学基团(C=O)相对含量；同时在高能电子、电子激发温度和亚稳态Ar原子等作用下氧化锆表面粗糙化。最终，在氧化锆表面化学结构成分和形貌的双重作用下，氧化锆粘接性能得到显著提高。
       crf等离子清洗机处理通过高活性粒子将大分子链分裂成更小的粒子，打破C-H和C-C等化学键，通过化学还原作用溶解碎屑以达到清洁的效果，其表面形貌不发生改变，可以用于提高陶瓷表面的粘接强度。