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为什么crf电浆清洗机处理须要真空环境下，其原理是什么？
crf电浆清洗机须要引进真空环境的原因很多，但实质上，具体有好几个因素:引进真空室的气体在压力环境中不会电离，在充入气体电离产生plasma之前必须达到真空环境。此外，真空环境允许我们控制真空室中的气体类型，并控制真空室中气体类型对等离子体处理过程的可重复性至关重要。
要进行crf电浆清洗机处理产品，首先我们要产生plasma。首先，将单一气体或混合气体引进密封的低压真空plasma室。然后两个电极板之间产生的射频(RF)激活，这些气体中激活的离子加速，开始振动。这种振动。“用力擦洗”材料表面的污染物须要清洗。在处理过程中，plasma中激活的分子和原子会发出紫外线，从而引发plasma的光。温度控制系统通常用于控制蚀刻率。对温度敏感的部件或部件的plasma蚀刻温度可控制在15摄氏度。我们所有的温度控制系统都已预先编程并集成到plasma系统的软件中间。设置一个保存每个等离子体处理的程序，以便轻松地复制处理过程。
不同的气体可以引进plasma室来改变处理过程。常用的crf电浆清洗机包括02、N2、Ar、H2和CF4。世界各地的大多数实验室基本上都使用这五种气体单独或混合进行crf电浆清洗机处理。
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