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增加功率低温等离子体制样表面的-C-O-C数量增加:
随着放电功率的增大，制样表面的接触角随着放电功率的增大而增大。随着处理时间的增加，氧化层厚度增加，含o官能团的极性增强。低温等离子体处理制样后，制样的亲水随低温等离子体放电功率的增大而增加;低温等离子体处理制样后，制样的亲水随着低温等离子体放电功率的增大而减少。这是因为低温等离子体处理技术等离子体处理制样后，增加低温等离子体放电功率会促进低温等离子体内部的非活泼性粒子转化为能量较高的易于参与反应的活泼性粒子，有利于低温等离子处理机与制样表面的反应，使制样表面的氧元素含量升高，极性含氧官能团数量增多，亲水升高。
随着功率的进一步增加，活性粒子从电场中获得的能量增高，粒子间相互碰撞的几率就变大，导致粒子能量损失，使得活性粒子与制样表面的分子作用的幅度减弱，从而导致润湿性的相对下降，亲水降低。这是因为随着处理时间的增加，制样表面引人的极性含氧官能团数量增多，表面极性增强。低温等离子体处理后，制样表面的-C-O-C数量增加，但随着低温等离子体处理时间的增加，表面的-C-O-C数量逐渐减少，这是因为处理时间增加后，氧化能力增强，氧化层增厚，制样表面引人的-C-O-C被进一步氧化成-C=O造成的。
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