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20年专注等离子清洗机研发生产厂家
不同的激发频率plasma的有不一样的性能：
传统的plasma物理清洗有N2和AR清洁。AR自身是稀有气体，等离子体的ar不与表面产生反应，而是靠离子跃迁使表面清洁。典型的等离子体化学清洗工序是O2等离子体清洗。根据等离子体产生的氧自由基很活泼，易于与碳氢化合物产生反应，产生CO2、CO和H2O等易挥发性，进而去除表面的污染物。
plasma态的密度和激发频率有如下关系：
nc=1.2425×108v2
其中nc为等离子态密度（cm-3），v为激发频率（Hz）。
常用的plasma激发频率有三种：激发频率为40kHz的等离子体为超声等离子体，13.56MHz的等离子体为射频等离子体，2.45GHz的plasma为微波等离子体。
不同plasma自偏压不同。超声等离子体的自偏压为1万V射频等离子体的自偏压约为250V微波等离子体的自偏压很低，只有几十伏，三种等离子体的机制也不同。超声等离子体的反应是物理反应，射频等离子体的反应是物理反应和化学反应，微波等离子体的反应是化学反应。超声等离子体清洗对清洗表面有很大影响，因此射频等离子体清洗和微波等离子体清洗主要用于半导体的实际生产和应用。
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